1. The slurry for polishing crystalline phase-change materials according to one embodiment of the present invention comprises an abrasive, an alkaline abrasive enhancer, an oxidizing agent having a standard reduction potential higher than that of perchlorates, and ultrapure water.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 상변화 소자 제조 방법은, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 결정질 상의 상변화 물질막을 형성하는 단계; 연마제와, 알칼리성 연마 향상제와, 표준 환원 전위가 과염소산염(Perchlorates) 보다 큰 산화제와, 초순수를 포함하는 상변화 물질 연마용 슬러리를 이용하여 화학기계적 연마 공정으로 상기 상변화 물질막을 제거하는 단계를 포함한다.